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510所与英国真科公司就共同开发新一代高性能沉积源达成共识

时间:2017年07月28日 信息来源:中国空间技术研究院 点击: 字体:

近日,510所与英国真科公司就共同开发先进电弧源、磁控溅射源达成了合作共识,标志着510所向着"借力国际合作,促高端镀膜装备技术快速提升"的目标又迈进了一步。

高性能电弧镀膜装备、磁控溅射镀膜装备与超硬碳基薄膜装备是表面工程事业部重点打造的三款主打镀膜装备,在各工业领域有着广泛的应用,产业化前景可观。沉积源作为镀膜装备的核心竞争要素,对薄膜质量、薄膜均匀性、镀膜成本控制及批量化生产稳定性等至关重要。英国真空公司是世界著名的真空镀膜装备沉积源制造商,在磁控溅射源、电弧源、等离子体源以及反应溅射工艺控制方面拥有多项专利技术,相关市场占有率80%以上。2016年年初,510所就与真科公司建立了联系,先后开展多次交流。本次真科公司应邀访问510所,在该领域进行了深入细致的研讨,就共同开发面向中国市场急需的高性能电弧沉积源与磁控溅射沉积源达成了共识。

后续,510所将根据已达成的合作共识,与真科公司尽快启动新一代高性能沉积源的开发工作,快速提升510所镀膜装备研制能力,为实现高端镀膜装备跻身"国内领先、国际一流"行列,促进高端镀膜装备尽早实现产业化奠定坚实基础。





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